某半导体厂在生产过程中使用硝酸系显影液，产生高浓度含NOx废水，日处理量50吨。废水中含NO2-高达2000mg/L，且含有微量有机光刻胶成分，处理难度较大。

2. 废水成分及来源

显影工序废液（主要污染源）

晶圆清洗废水

废气洗涤塔排水

3. 处理工艺流程

采用"高级氧化+两级生物处理"创新工艺：

臭氧氧化

：通过臭氧发生器产生O3，将难降解有机物分解为小分子物质，同时将NO2-氧化为NO3-。

生物膜反应器（MBR）

：

第一级：缺氧环境下投加甲醇作为碳源，促进反硝化反应

第二级：好氧生物膜进一步降解有机物

电化学深度处理

：采用钛基涂层电极，通过电解作用彻底分解残余污染物。

4. 最终效果

NOx总氮降至8mg/L以下

COD稳定在30mg/L以内

废水回用率达60%

系统运行电耗控制在3.5kWh/吨水，较传统工艺节能20%。